光学元件的清洗质量直接影响镀膜的成功率和成品的光学性能。规范的清洗工艺是光学制造的基础保障。
清洗工艺流程包括：预清洗、超声波清洗、漂洗和干燥四个步骤。预清洗用中性清洗剂去除表面的大颗粒污染物。超声波清洗使用高频超声波配合专用清洗剂，去除微米级的油污和颗粒。漂洗使用去离子水彻底去除残留的清洗剂。干燥使用热风或红外线烘干。
清洗剂的选择要根据基片材料和污染物类型确定。对于普通光学玻璃，中性清洗剂即可满足要求。对于特殊镀膜基片，可能需要使用专用的光学清洗剂。严禁使用含研磨颗粒的清洗剂，以免划伤镜片表面。
超声波清洗设备的频率和功率需要匹配。常规清洗使用四十千赫兹的频率，精密光学件建议使用八十千赫兹以上的高频超声波，减少对镜片表面的冲击损伤。
清洗环境也很重要。清洗区域应为千级洁净室或更高等级，避免空气中的尘埃再次污染清洗后的镜片。操作人员应佩戴干净的手套和口罩。
对于二手设备用户来说，配备一套规范的清洗设备是保证产品质量的基础投入。
