曝光机是光刻工艺的核心设备，通过光源照射使感光材料发生化学变化，将掩模版上的图形转移到基板上。曝光技术在PCB、半导体和平面显示等行业中有着广泛的应用。
曝光机按光源类型分为：紫外曝光机使用汞灯或LED紫外光源；激光直写曝光机使用激光束直接在基板上扫描；电子束曝光机使用电子束进行纳米级图形加工。
按曝光方式分为接触式曝光机、接近式曝光机和投影式曝光机。接触式分辨率和效率最高但掩模版易损坏，投影式精度高但对准系统复杂。
曝光工艺的关键参数包括曝光剂量、曝光时间、对准精度和焦深。曝光剂量与光源强度和曝光时间相关，需要根据感光材料的特性和膜厚确定。
在二手光学设备市场中，曝光机是最受关注的设备类型之一。一台保养良好的二手曝光机，可以以新机五到七成的价格，实现相近的生产能力。
