真空镀膜技术是光学器件制造中的关键技术，通过在真空环境下将镀膜材料沉积在基片表面，形成功能性薄膜。
真空系统
由机械泵、扩散泵或分子泵组成，提供高真空环境。真空度通常需要达到10^-3 Pa以上才能保证镀膜质量。
蒸发/溅射系统
电阻蒸发：通过加热坩埚使镀材气化，适用于低熔点材料。电子束蒸发：用高能电子束轰击镀材，适用于高熔点材料。磁控溅射：利用等离子体轰击靶材，膜层致密度高。
膜厚监控系统
常见的有石英晶体振荡法和光学监控法。石英晶体法实时监测膜厚，光学法通过测量透射率或反射率控制膜层厚度。
基片加热与旋转
为了获得均匀致密的膜层，基片需要加热到一定温度，并在镀膜过程中持续旋转。不同材料对温度要求不同。
